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二次离子质谱是一种高灵敏度和高分辨率的固体表面分析技术 。 它不仅能够做到从H到U的全元素及同位素分析 , 同时还可以分析团簇和分子结构 , 对固体进行微区分析成像和深度动态分析检测 , 对元素的检出限可以达到ppm~ppb级别 , 相比AES、XPS、EDS等技术 , SIMS可以获得材料更加表面的元素信息精确到1nm , 即可以分析无机物 , 也可以分析有机物 。 现已广泛应用于生物医药、化学、材料、微电子、地质等领域 。
二次离子质谱原理是以一定能量(通常为几百至几万eV)的初级离子束入射到材料表面 , 当表面粒子(原子、原子团、官能团、分子等)获得的能量大于基体结合能时 , 会发生溅射现象 , 导致一部分中性粒子(通常大于90%)和一大部分带电二次离子(通常小于10%) , 这些二次离子进入到质量分析器定性分析出结果 。
SIMS的主要工作模式分为静态模式和动态模式 。 静态模式是指在低电子束能量和低束流密度下 , 稳定持续的轰击样品表面 。 此时初级离子束带来的能量只有一小部分用于激发离子 , 二次离子可以具有长达数小时的弛豫时间 , 从而准确地获得样品表面单原子层信息 。。
动态模式下 , 高能离子束溅射和质谱检测同时交替进行 , 样品表面的原子层会被层层剥离 , 每一层被剥离出的二次离子都会被收集检测 。 静态SIMS的软电离通常用于分析有机物表面 , 或者用于分析基体表面 , 动态则是在一定微区和纵深范围内得到样品元素组成的三维空间分布情况 。 微源检测拥有德国ION-TOF的先进TOF-SIMS仪器 , 可以提供SIMS检测服务技术解决方案 。 下图为团簇离子源深度剖析 (高分子有机材料膜层结构剖析)案例图 , 从下左图中可以显而易见的观察到不同质荷比的物质在不同溅射时间(溅射深度)下的分布情况 , 下右图则为三维空间成像 , 更加直观的反映了元素、团簇的空间分布 。
【二次离子质谱是什么?其检测原理和应用】
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