目前我国光刻机处于什么样的水平，跟ASML有多大的差距？( 二 )
但是作为世界上芯片消费大国 ， 我在芯片制造方面却并没有拿得出手的一些技术或者企业 ， 而我国在芯片制造方面之所以跟一些发达国家有较大的差距 ， 这里面最主要的一个原因就是光刻机的限制 。
虽然最近十几年我国一直在致力于研究光刻机 ， 但是取得的成果并不是很明显 ， 目前我国光刻机最高技术也就上海微电子所生产的90nm光刻机 。 除此之外 ， 目前合肥芯硕半导体公司也具备量产200nm光刻机的实力 ， 无锡影幻半导体公司也具备200nm光刻机量产的实力 。
但是目前这些国产光刻机企业跟asml、尼康等具备28nm以上工艺光刻机的企业相比 ， 差距还是比较大的 ， 尤其是跟asml7nmEUV的差距更大 。
表面上看 ， 90nm跟28nm或者是7nm从数字上来看差距不是很大 ， 但实际上这里面是千差万别的 ， 光刻机每上一个台阶技术难度就会大大增加 ， 可能从90nm升级到65nm并不难 ， 但是从65nm升级到45nm ， 就是一个技术节点了 ， 45nm的光刻机技术明显要比90nm和65nm难很多 ， 至于28nm、14nm和7nm ， 甚至未来有可能出现的3nm ， 那难度就更大了 ， 也正因为如此 ， 我国的光刻机的研发进度一直都比较缓慢 。
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