14nm芯片提前量产！中国半导体取得突破后，日本巨头来华寻求合作( 二 )_据媒体1月9日最新消息

资料显示，高纯度一氧化二氮主要是半导体及显示屏制造时的氧化膜的氧来源的特种气体，高纯度八氟环丁烷主要是这种氧化膜的微细加工(蚀刻)时的特种气体。简单地说，就是这两种都是半导体生产过程中的重要原料。外界猜测，这家日企此番在华设下第二家新工厂，或许是在担忧受到日本对于自家半导体出口限制带来的影响。

2019年7月，日本宣布要对韩国实行半导体材料限制。在日本的这一举动之下，韩国的半导体相关企业也随之减少了与日本企业的经济往来，并且转向中国进行半导体的相关合作。据报道， 2019年12月12日当天，韩国电子巨头三星宣布，将对其中国西安芯片工厂增加80亿美元（约562亿元人民币）的投资，以促进NAND闪存芯片的生产。

事实上，在多家国际半导体巨头来华设下工厂的背后，是我国半导体产业不断迎来新的突破。有分析指出，未来3-5年，是中国半导体产业实现“弯道超车”迈向中高端的黄金期。据媒体1月9日最新消息，我国芯片制造商中芯国际今日宣布， 14nm级芯片提前完成量产。