国产芯片为何卡在光刻机上！日本尼康社长：高级的你们做不了( 五 )_荷兰ASML是世界顶尖光刻机的全球唯一生

日本尼康株式会社的社长来我国访问时曾说过这么一句话：“光刻机光学系统虽然很难，我相信你们能够研制出来，但（双）工件台恐怕就拿不下来了，因为这个系统太复杂了。 ”我国的清华大学等单位经努力攻关，不仅做出了满足90纳米光刻需要的工件台，针对28至65纳米光刻配套的双工件台也已研制成功，使我国成为世界上第二个研制出光刻机双工件台的国家。第四道难关是光刻机浸液系统，进入65纳米以下制程后，曝光光学系统已不能满足需要，急需新的技术。台积电技术人员经研究，提出采用以水为透镜，激光光束透过“水”为中介，缩短成更短波长，并与ASML公司合作，研制出45纳米浸没式光刻机。就是这项发明使原有193纳米波长光刻机不断延续，芯片制程最低可达7到14纳米，台积电和ASML公司分别成为各自领域龙头企业。

请注意黄色的光柱是光刻机折射镜系统。有多复杂一目了然。

我国浙江大学经多年研究，研制出浸液控制系统样机，为我国浸没光刻机的研制提供技术支撑。该项目研发成功后将推动国产光刻机一举超越Nikon和Canon的光刻机，成为全球光刻机生产企业第二名。随着上述四大关键技术的研发成功， ASML公司不得不与上海微电子重新建立合作伙伴关系，并声称，从来没有对中国出售最先进光刻机进行所谓的“禁运” ，愿意随时给我国出口最高级的光刻机，笔者认为，再给我国5至8年时间，我国光科技技术将站上世界领先地位，那时，我国芯片产业将迎来一片曙光。