所以，光刻机中国必争！

国内技术差了多少

光刻工艺有两个重要部分，一个是光刻机、另一个就是光刻胶。光刻胶是光刻机研发的重要材料，光刻胶不止应用于芯片，而在高端面板、模拟半导体、发光二极管、光电子器件以及光子器件上应用广泛。

2002年，光刻机被列入国家863重大科技攻关计划，经过十几年潜心研发，我国已基本掌握了高端光刻机的集成技术，并部分掌握了核心部件的制造技术。但中国还没有造光刻机的技术。

而半导体光刻胶市场主要被日本和美国企业所垄断，合占市场份额高达95% 。在我国只有少部分企业可以生产。此前，日本限制三种日产半导体材料的对韩出口，三种材料中包括半导体制作过程中的核心材料光刻胶。在此背景下，国内相关产业链公司受益。

掌握尖端科技是顶级意志，是国家战略，必须突围成功！当然现实看，现在A股那些半导体公司，还弱的一逼。全球前十大半导体设备生产商，美国企业4家，日本企业5家，咱们为零；包括半导体材料，基本上被美日垄断了。我们的优势是，有钱有决心有市场，希望能杀出重围！

进口光刻机再遇阻，科技战依旧没有停歇，自主可控箭在弦上！( 五 )