斥资33.8亿采购20台EUV光刻机,三星要保持领先,甩开中芯国际( 二 )
现在三星迫切希望赶超以及维护其他半导体业务方面的绝对领先优势!日前三星又下了一笔大订单 , 斥资33.8亿美元采购20台EUV光刻机 , 不仅会用于7/5nm等逻辑工艺 , 还会用在DRAM内存芯片生产上 。
值得注意的是这也是三星近年来最大的一笔采购设备 , 显示出三星在EUV工艺上的雄心 。 不仅如此 , 三星还剑指台积电 , 虽然在7nm领域落败 , 但是三星还会推出6nm LPP、5nm LPE、4nm LPE等工艺 , 依然少不了EUV光刻机的参与 , 以此来与台积电抗衡 。
此外 , 三星也将继续稳固存储芯片领域的优势 。 这次采购的20台EUV光刻机不仅会用于逻辑工艺 , 还会用在DRAM内存芯片上 。 三星最快在今年底就会在内存芯片生产上使用EUV光刻机 , 有可能在DDR5内存上首尝EUV的螃蟹味道 。 三星的目标是在2030年时不仅保持存储芯片的领先 , 还要在逻辑芯片成为领导者 。
对于EUV光刻机来说 , 不得不提提中芯国际 。 此前荷兰ASML公司决定延迟为中芯国际出货EUV光刻机 。 据了解 , 中芯国际目前量产的最先进制程为14nm , 12nm已经取得重大突破 , 而且中芯国际赢得华为海思14nm芯片代工大单 。 。 而EUV光刻机主要用在7nm及以下制程 。
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