中国芯片再爆好消息! 国产光刻机迎来新突破: 开始攻关65nm技术( 二 )_众所周知

但近日，我国光刻机研究终于传来了好消息，国内企业正在攻关65nm工艺的光刻机设备，目前已经取得了一定的进展，这意味着我国的光刻机设备也即将进入到中端市场领域，迎来了新突破，随着国产光刻机分辨率的提高，从90nm进入到65nm时代，也将会进一步缩小我们与ASML之间的差距；

但实际上，即便是国产光刻机能够攻克65nm技术难题，成功量产65nm光科技设备，但要知道我们国产光刻机目前依旧还是处于严重落后的地步，当然针对这种现象，实际上与我们在光刻机设备研发起步时间、技术、人才等等方面，也是有着直接的关联，例如在光刻机技术研发上起步较晚，同时还遭到了西方国家的技术封锁，在关键技术人才方面的积累较少等等，综合之下，也就直接造就了国产光刻机技术长期处于落后的态势之中；

而起步较早的ASML在光刻机设备领域，在2004年全球芯片制造工艺都进入到了全新的瓶颈期，而作为全球知名的芯片代工企业，为了能够进一步需求突破，所以也是联合了ASML ，制造了一台以水为介质的光刻机设备，相对比过往以空气为介质的光刻机设备，在分辨率方面也是有着更加优异的表现，所以ASML也凭借这种以水为介质的浸润式光刻机设备，成为了全球最强的芯片设备制造企业，一举打败了当时日本尼康、佳能等知名企业，而台积电方面自然也是得到了ASML更多的关照，后来也直接奠定了台积电在芯片代工领域的霸主地位。