【国金科创前沿】 | 半导体#中微半导体第2期

来源:国金证券研究所

【国金科创前沿】 | 半导体#中微半导体第2期

内容来源:《科创板半导体研究:大国重器——中微半导体》(报告始发于2019年4月11日)

国金证券研究所

创新技术与去企业服务研究中心

半导体团队

主要投资逻辑:所属行业发展前景良好+公司自身产品竞争力提升+国家战略支持。

行业前景发展良好:公司主营刻蚀机(营收占比34%)和MOCVD(营收占比50%)两大产品。位处半导体行业中上游,整体行业景气度伴随着半导体周期而波动,拉长时间轴看,半导体设备整体产值稳步向上,预计未来5年CAGR=8%-10%。

刻蚀设备:在集成电路设备领域中成长性最好。2018年刻蚀设备市场规模约为155亿美金,预计未来5年刻蚀的市场增速将超过半导体设备平均增速,或将达到15%。成长动力来自于:先进集成电路制造越来越复杂,芯片里面结构的微缩所需工艺要求越来越高,故此对于刻蚀工艺的要求越来越高。

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