7纳米EUV正式量产！能耗比再提升，海思、高通已跃跃欲试
对半导体行业来说，制程工艺可谓是关键中的关键。对芯片来说，密度更大、更先进的制程工艺有助于提升发热控制，换言之甚至能做到提升性能但功耗却减少。目前字面上最先进的制程工艺是台积电和三星的7纳米工艺，但这还不是终点。
日前，台积电宣布，7纳米EUV（极紫外光刻技术）工艺正式达到量产要求，目前的良率已经达到了和7纳米技术初代相当的水准，年内还将不断优化。台积电预计，今年会有100万块300毫米晶圆被生产出来，对比去年猛增150%。
EUV技术不是什么神奇“BUFF”，而是另一种光刻方式。未来想要继续往前推进制程工艺升级，传统的光刻技术已经难堪大任，EUV技术成为了唯一的出路。
虽然三星也已经宣布7纳米EUV技术将会在今年下半年量产，但在时间上还是让台积电抢先了一步。这意味着台积电在半导体代工中再次占得了先机，在和三星的比较中占得上风。
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