光刻机|国产光刻机技术新突破,中国芯正在崛起路上,再见了,荷兰光刻机
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导语:“芯片”、“断供”、“华为”这三个热词儿或许已经占据了很长时间的科技圈儿新闻版面了 。 但是 , 随着9月14日华为被美国人断供芯片的日期到了以后 , 关于华为会怎么解决芯片断供的问题也是一度受到了全球的关注 。
小语想跟大家侃一侃关于“国产光刻机技术新突破 , 中国芯正在崛起路上 , 再见了 , 荷兰光刻机”的那些事儿 。
在前不久 , 华为轮值董事长余承东就曾跟大家说出了华为目前在麒麟芯片上面被断供后将会面临的问题之后 , 再一次把芯片设计和芯片制造 , 以及国产光刻机等全部推向了大众的视野 。 说实话 , 很多人原本并不看好国产光刻机 , 但随着这一波浪潮的推动下 , 国产光刻机如今已经迎来新的突破的消息也被曝光 。
【光刻机|国产光刻机技术新突破,中国芯正在崛起路上,再见了,荷兰光刻机】华为想要“弯道超车”或许目前最好的办法 , 就是等国产光刻机最新技术突破后的亮相 , 然后将自己如今被芯片‘卡脖’的问题解决 。 其实 , 说是弯道超车 , 主要还是因为芯片想要实现100%国产化 , 那么光刻机设备上的使用是没办法绕开的 。
“华为被断供 , 主要还是因为代表着国内半导体领域取得突破”是的 , 这华为之所以会被美国人一而再再而三地狙击 , 表面上看来是美国人觉得华为在5G通信技术上面以及在芯片设计上面的成绩让对方感到担心 。 事实上 , 小语觉得更有可能是美国人已经看到了中国芯片在强势崛起 , 从而感到自己在科技行业领域中霸主的权利受到威胁 , 才会不遗余力地打压国内半导体行业的发展 。
小语能够这么来说 , 最大的依据也还是因为国内半导体领域在行业中发展的速度越来越快 。 虽然我们在这一块的领域技术起步要比很多发达国家要晚许多 , 但是曾经依赖于国外的技术和设备以及在半导体芯片上的被动局面 , 将慢慢褪去 。 深耕在半导体领域这么多年 , 在技术和设备的研发上已经取得一定成就 , 这就是我们最大的依仗 。
“台积电断供华为 , 主要还是被卡在光刻机设备上”好吧 , 华为被断供芯片的事情上 , 其实也看出了很多衍生出来的整个半导体芯片行业对荷兰先进光刻机技术和设备的依赖 。 怎们远的不说 , 就单说这一次台积电为什么没能直接越过美国人把芯片继续卖给华为?难道真的是美国人新材料的限制问题吗?
很显然 , 台积电真正被美国人卡住脖子的 , 并不是完全因为制造芯片需要用到美国人技术的硅集成电路材料的问题 。 虽然这是一个原因 , 但是这材料并不是没办法替代的 , 只是在良品率上面会有所下降罢了 。
最主要的还是因为台积电想要制造出高端先进的芯片 , 必须要用到荷兰人的光刻机设备 。 而巧的是 , 荷兰ASML公司最大的背后股东就是美国人 , 那么台积电想要越过美国人继续卖芯片给华为就非常困难了 。
“国产光刻机技术取得新突破 , 离开荷兰光刻机不再遥远”想要拥有一台自研生产的光刻机 , 难度丝毫不亚于当初制造“原子弹” 。 特别是 , 荷兰ASML公司几乎已经把光刻机技术实现了全垄断的地步 , 而国产光刻机却一直停留在90nm的技术层面上 。 虽然在此之前我们也有提出跟荷兰人买高端光科技的想法 , 但是订单下了几年 , 一直没能收到货 , 那未来就更别想能拿到了 。
只是 , 最近我国在半导体芯片领域上面频频传来好消息 。 先是中国北斗芯片实现了252nm技术的突破 , 预计明年开春就能实现量产 , 接着上海微电子传出已经成功研发了22nm光刻机的消息再一次把国产光刻机的话题炒到前所未有的新潮中 。
或许 , 在很多人眼中 , 认为国产光刻机就算上海微电子已经研发出22nm的国产光刻机 , 但是还是没办法跟荷兰EUV先进光刻机相提并论 , 但是小语却还是用22nm光刻机技术跟当初我们一直停滞在90nm工艺上来比较 , 已经是非常大的跨越了 。
荷兰人的EUV光刻机之所以这么备受宠爱 , 主要还是在工艺上做到了先进 。 那么 , 我们如今已经掌握了22nm国产光刻机的工艺 , 有着可以借鉴的经验 , 追赶荷兰光刻机指日可待 。 到了那一天 , 我们定然会果断跟荷兰光刻机说再见!
大家认为国产光刻机技术新突破 , 中国芯正在崛起路上 , 再见了 , 荷兰光刻机吗?欢迎下方留言区评论 。
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