光刻机|比原子弹还难造的EUV光刻机，到底含不含中国技术？还真有！_极紫外光刻|芯片|原子弹|it芯片

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MEMS是一种尺寸最多只有几毫米的高科技装置，其内部结构一般在微米甚至纳米量级，主要由传感器、动作器(执行器)和微能源3大部分组成，赛微电子的MEMS主要用于EUV光刻机的微流控部分
（2）福晶科技的光学元件
福晶科技前身是中国科学院福建物质结构研究所，主要从事晶体材料及其器件的研发、生产和销售，其产品广泛应用于激光及光通讯领域。今年6月份，福晶科技曾经公开披露：公司曾通过欧洲代理向ASML提供极其少量光学元件
按照产业链划分，芯片完整生产过程包括芯片设计、芯片制造、芯片封测三大环节，就好比我们盖房子要先画图纸，然后施工建设，最后验收装修，这里面最难的一个环节是芯片制造部分
目前全球芯片制造技术最强的有三家公司：台积电、三星电子、英特尔，其中台积电完全掌握了5纳米芯片的制造技术，三星电子完全掌握了7纳米芯片的制造技术，并且正在攻克5纳米良品率的难题，英特尔已经初步掌握了7纳米芯片的制造技术，但是还不能完全量产

而芯片制造中最重要的机器就是光刻机，光刻机的成本和工序占了整个芯片生产流程的30%以上，如果要生产5纳米及以下的芯片，必须使用荷兰ASML的EUV光刻机，全球唯一，别无他选

这是2018年的一张全球高端光刻机销量图，可以看出，在高端光刻机领域，荷兰的ASML独占90%的销量，其余10%被日本的佳能和尼康瓜分
简单的说，所谓芯片其实就是电子逻辑开关的集合，每个开关有开与合两种状态，分别代表0和1 ，这就是为什么我们常说电脑只认识0和1的原因，只不过芯片里的开关特别小，每个都是纳米级别的，大约是头发丝的5000分之一那么细
以华为最新的麒麟9000芯片为例，指甲盖大小的芯片里，有超过100亿个晶体管，每个晶体管就代表一个开关，而EUV光刻机的作用就是在指甲盖那么大的面积里，把100多亿的晶体管电路给刻画出来，用的工具就是光！

EUV光刻机工作时要求多精细？好比人站在月球上往地球上的篮筐去投篮，而且必须是空心3分才行！
所以，一台EUV光刻机包含了人类目前最高精尖的科技，集中了全世界科技最发达国家的最前沿技术，比如光源技术来自美国、光学设备来自日本、轴承来自瑞典、阀件来自法国、机械工艺和蔡司镜头来自德国，整台机器包括超过10万个零件
所以有人说， EUV光刻机比原子弹还难制造，毕竟制造原子弹一个国家就能独立完成，而EUV光刻机必须多个科技大国同时出力才行！
有朋友经常问，作为世界上的制造强国，中国的产品或者技术有没有被EUV光刻机所采用呢？答案是肯定的，而且不止一个！
根据媒体公开报道，中国至少有三家企业的产品已经被荷兰ASML用于生产EUV光刻机：
（1）赛微电子的微机电系统MEMS

（3）蓝英装备子公司的清洗设备
EUV光刻机制造芯片的过程非常复杂，要经历多次曝光和清洗，其中光学系统的清洗必须采用专业的清洗设备，蓝英装备在瑞士的子公司UCMAG从08年就开始为ASML的EUV光刻机的光学系统的关键部件提供清洗设备

可以看出，虽然中国目前无法自主生产EUV光刻机，但是来自中国的技术已经开始逐渐渗透到EUV的生产线，说明中国制造已经得到世界范围的认可！
当然，以上三家公司只是通过公开资料可以查询到的，或许ASML的EUV光刻机有更多的中国供应商，但是由于保密条例的原因，双方无法对外公开

不过需要说明的是，目前中国的供应商更多的还是为EUV光刻机的非核心部件提供技术和服务，像光源、镜头、阀件等核心部件，依然被欧美企业牢牢把控，所以，不妄自尊大，也不要妄自菲薄，保持平常心和进取心，默默为咱们的科技工作者加油就行了！
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