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中国可以造原子弹，为何造不出光刻机？工程师：一个零件调整10年
伴随着科技的发展，中国也出現了很多科技巨头，他们在尖端科技获得了极大的突破，例如中国发明的高铁技术在全世界处在领先水平，华为的5G技术和机器设备现阶段也处在全球领先水平，尽管我们在这种行业获得了很大的成就，但在集成电路芯片方面，我们依然很难获得突破。

提到芯片，那麼我们就必须提到芯片制造机器设备，即光刻机。目前光刻机主要分为DUV光刻机和EUV光刻机，仅有EUV光刻机才可以生产工艺流程小于7纳米技术的芯片。由于中国发展太晚，现阶段中国能单独生产的光刻机仅有28台，与ASML的5台对比，還是有非常大的差别。

因而中国的手机处理器都是通过从海外進口，或找代工企业家代工，如今比较大的芯片代工企业家如台积电、三星都是选用荷兰ASML的EUV光刻机。
大家都知道， 2020年5月16日，特朗普政府升級了对华为的禁令，不但要求当地公司严禁向华为提供芯片，并且还要求全部在半导体设备方面应用美国技术或机器设备的公司，在与华为协作前必须向美国商务部申请办理许可。这一举动也是为了在美国断开华为的芯片经销商台积电对其开展全方位严厉打击。

“中国连原子弹都能造，造一个光刻机又有何难？”
近期，那样的言论在网络上时有发生，而每一次见到这种言论，我都是一脸强颜欢笑。造一个光刻机难不难？比原子弹更困难？有一说一，确实很难，比制造原子弹还要难！

在这以前，有一个参加过光刻机产品研发的美国工程师崩溃地说过：产品研发一台顶尖光刻机真的很难，有时一个零件，就得调十年！美国工程师的话第一眼听起来有点儿夸张，可是细心想一想，你能发觉一点也不夸张！
为何麽要说光刻机比原子弹更难？
制造原子弹，最大的困难便是要有浓度较高的的核原料，要是能攻破这道难关，获取出核原料，那原子弹就不难制造了。但假如要制造光刻机，那仅是原料却还不够，现阶段世界最大的光刻机生产商是荷兰的ASML企业。

特别注意的是， ASML企业制造顶尖光刻机的能力并不是ASML企业的强项，也不是荷兰高新科技的强项，只是ASML企业的跨国支持！
依据相关材料， ASML企业生产的光刻机，其內部零件高达十万件，且均来源于不一样国家，每一件零件都是世界各国顶尖技术结晶。比如荷兰光刻机的透镜，是由德国制造的，是世界最优秀的；轴承也是由瑞典设计和生产的；激光设备也是由日本设计和生产的。

看见这个，坚信很多人都找到答案，一台顶尖的光刻机，只靠一个国家的力量是很难造出的。
因而，我们必须亲身科学研究光刻机的很多核心部件。这类核心部件的科学研究可能需要反复的试验，而要想取得成功，可能要开展数万甚至于数十万次的试验，甚至于上百万次。因为这个原因，中国光刻机的产品研发进度相对迟缓，这也造成了中国光刻机与荷兰的ASML光刻机之间的极大差别。

近些年在我国也增加了对光刻机商品的科学研究开发，并获得了一定的成就。当今，包含清华大学、武汉光电研究室等在内的科研团队，已获得了一些喜人的研究成果，但光刻机是一项繁杂的工程，并不是一两个科研团队就能短时间研制出高端光刻机。因此在中国高端光刻机的发展趋势道路上还很漫长。

为缩小与荷兰ASML之间的差别，中国需要持续提升在优秀人才和资产方面的投入，与此同时，还需要进一步加强光刻机及整个全产业链的支持。只有共同奋斗，才有可能在中国尽早研发出具备独立产权的高端光刻机，进而摆脱技术壁垒。
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