光刻机|中科院传来重磅消息：5nm光刻机技术迅速腾飞，华为芯片迎来转机_芯片|华为|it芯片

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【光刻机|中科院传来重磅消息：5nm光刻机技术迅速腾飞，华为芯片迎来转机】近年来，美国对中国加大打压力度，尤其是在科技领域上的制裁，令不少中国企业都如鲠在喉。但中国很快就意识到如果不发展相关领域的空缺技术，哪怕是今天解决了眼前的困难，也不能保证日后不被人扼住喉咙。于是中国近段时间一直致力于发展国内相关领域的核心技术。日前，据中科院提交的相关报告指出，苏州纳米所取得了超高精度光刻机上的重大进展。

中科院发现新型超高精度激光光刻技术?据悉，中科院此次是发现了一种不需要用到EVU光刻机就可以进行7nm以下工艺加工的新型超高精度激光光刻技术，而这也令不少人对中国科研技术的发展由衷地发出赞叹。要知道，荷兰的ASML公司作为世界唯一一个可以生产EUV光刻机的企业，在中国没有此次重大发现之前，世界上任何7nm以下的产品工艺都必须要使用由该公司生产出来的EUV光刻机才能完成，这也造就了一定程度了， ASML垄断了全球的光刻机市场。

其实，在美国对华为5G技术全面封锁之前，中国对于光刻机的认识程度还不够，而光刻机作为能够制作手机核心部件芯片的工具，在行业内又是格外被重视的。此前，中国的手机系统基本上除了安卓就是ios ，但这两大主流系统中的核心芯片都来自其他国家，那么美国一旦从光刻机上下手，中国相关企业此前在智能手机别的方面所作出的成果等于是被一键清零。

中国有望实现光科技技术的自给自足?事实上，荷兰的ASML公司还曾对外表态称，他们并不担心中国能够复制一台光刻机出来，因为光刻机技术有近90％是高精度仪器才能够做到，而中国并没有这个条件，当然，这主要是因为那些高精度仪器并非出自同一个国家，而是分散在多个发达国家，由于涉及到的国家太多，自然是无法获得生产光科技所需要的用到的全部仪器。

于是，中科院便针对这一现状，从现实出发，开创出来了一条与中国相匹配的光刻机道路，而如今中国竟然如此快速的就在之前从未曾涉足的领域取得了核心技术的重大突破，相信用不了多长时间，中国就能够在光刻机技术上实现自给自足。