单层二硫化钨制成最薄全息图像
日前 ， 密苏里科技大学机械与航空航天工程系的研究人员利用二硫化钨（WS2）制成一种非线性全息图像 ， 仅单层原子厚度 ， 具有高转换效率 ， 可用于光通信、高密度光学数据存储和信息安全等 。 相关成果发布在8月16日的《纳米快报》上 。
非线性全息技术能够在激发基频以外的新频率下产生光束并重建全息图像 ， 为光学信息处理和数据安全提供了前所未有的应用途径 。 到目前为止 ， 在片上集成的非线性全息图中 ， 大多采用厚度为数十纳米的等离子体超表面来实现 ， 但其转换效率低 ， 吸收损耗高 。
密苏里科技大学研究人员发现了一种非线性过渡金属二硫化物（TMD）全息图 ， 仅由厚度约为0.7纳米的、能够控制光的波前的纳米二硫化钨单分子层制成 。 利用超快激光激发纳米二硫化钨单层膜 ， 用于产生旋涡光束和艾利光束 ， 并在二次谐波频率下重建复杂的全息图像 。
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