芯片|22nm国产光刻机迎突破，还要执着于荷兰光刻机吗？中国芯片迎转折_光刻机|it芯片|重器

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今天跟大家聊一聊：国产光刻机已经实现22nm工艺的突破，我们还要执着于荷兰ASML的光刻机吗？这是否能成为中国芯片的转折点呢？

“芯片”原本是属于高科技领域的专业代名词，但自从美国对华为实行芯片禁令开始，芯片却成为了很多人茶余饭后的话题。虽然目前华为已经拥有了研发设计5nm芯片的能力，但是苦于在制造工艺上的缺失，只能把所有的订单交由台积电完成。
但受到美国芯片禁令的影响，也导致了台积电被迫终止合作， 9月15号之后也将正式断供华为，就连国内拥有14nm先进工艺的中芯国际，也不得不中断和华为的合作，因为在美国升级相关规定之后，其中就有提到禁止使用美国设备和技术的企业，在没有得到授权的情况下和华为合作。

很多人都会好奇，中国目前的科技也发展的这么好了，为什么就不能制造出尖端的芯片呢？这些问题很显然也没有办法做出合理的解释，只能说科研需要一定的时间，也不能急于这一时。
众所周知，目前在芯片领域的相关技术上，我们卡就卡在一台尖端的光刻机上，欧美国家对于这一项技术一直以来都是严防死守，目前还没有哪一个国家能够独立制造出光刻机，名义上是由荷兰的ASML公司生产制造的，但其实他们的技术来源于百家所长，而其中美国的技术又占据了大部分，这也是为什么我们无法获得尖端光刻机的主要原因。

很显然就目前这种情况而言，想获取他们的尖端光刻机，基本上是不可能的了。不过这也间接促成了整个中国半导体领域的发展，在科研人员的努力之下，中国芯也迎来了属于自己的机会，目前在整个芯片的产业链中，也已经取得了突破性的进展，在相关技术上也实现了重大突破。
中国在芯片领域再次迎来好消息除了华为所取得的5nm芯片的研发设计工艺，目前芯片领域的好消息也不断传来。在前一段时间，中国北斗成功突破了22nm的定位芯片，目前所采用的基本上都是40nm的工艺，也就意味着在实现量产之后，在技术上将领先于美国GPS的两代以上。

不仅如此上海微电子也迎来了一个好消息，他们也成功突破了22nm的光刻机技术。虽然在技术上面，和欧美国家的技术还是存在很大的差距，对于整个中国半导体进程来说，却是一个突破性的进展，我们和发达国家的差距也在逐渐缩小，而且目前我们也加大了对半导体领域的研发力度，在赶超他们的进度上也将越来越快。
对于现在的数字化时代来说，芯片对于任何高科技企业来说都是最为核心的存在，就目前而言如果没有高端芯片的支持，也就意味着你在科技领域不会有很大的成就。但由于中国缺少了一台制造芯片的尖端光刻机，也导致了我们在制造芯片上，并没有那么的如意。

受到美国技术的影响，再加上美国在半导体领域拥有的绝对话语权，美国对有能力制造光刻机的企业，都进行了相关的封锁，这也导致了目前能够制造尖端光刻机的，也只有荷兰的ASML公司，他们所掌握的技术也是全球独一无二的，占据了整体光刻机市场的80%以上，而所有的尖端光刻机均是来源于他们。

目前利用上荷兰最为尖端的光刻机，已经能够满足5nm芯片的生产目前掌握5nm技术的也只有三星以及台积电，而中芯国际能够实现14nm工艺的量产还是要高度依赖于美国的技术。目前中国在芯片领域，能够实现完全自主国产的工艺仅为90nm左右，而这一次上海微电子突破的22nm光刻机，也将给中国芯带来更多的机会。

【芯片|22nm国产光刻机迎突破，还要执着于荷兰光刻机吗？中国芯片迎转折】随着美国的芯片禁令生效开始，整个中国半导体企业也都认清了自己的不足，国家目前也在大力扶持半导体企业的发展，也投入了大量的研发资金，在国家高度的重视之下，相信很多半导体企业也没有了后顾之忧，自主创新也成为他们唯一的目标，在这样万众一心之下，相信中国半导体领域很快就能够有所突破，再一次让欧美国家刮目相看。