芯片|台积电官宣好消息，国产巨头也不甘示弱，“中国芯”的春天来了_台积电|纳米|官宣|it芯片

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中国是芯片需求大国，每年都需要通过外经营大量的芯片。而美国方面对正是因为看中了我们的软肋，所以说，在此次对华为的打压之中，首先就将芯片获取来源，彻底垄断。
芯片的好坏决定产品性能
芯片行业耗时巨大，耗资巨大，所以说这便导致很多芯片巨头在很多关键时刻选择放弃这一行，芯片制造非常困难，并且耗费时间非常长，一个小小的芯片，从设计到构思再到制造到最后的封测需要经过长时间的过程，并且在这个过程中是不允许出现任何一点点差错的。

芯片的好坏直接决定了电子产品的性能。而正是因为意识到了芯片的重要性，所以说，目前来讲，对于我国来说，最重要的就是发展芯片，并且知道属于我们自己的国产芯片。为此，国家还下出了命令，要求在2025年之前，国产芯片自给率要达到70%以上。为了支持国产半导体行业的发展，国家还斥巨资进行扶持。

台积电官宣好消息
最近台积电方面传来了消息，表示2纳米工艺芯片技术已经实现了比较大的突破，并且表示会放弃之前一直使用的晶体管技术finfet换成环绕炸鸡晶体管技术GAA ，也就是说GAA比finfet技术更加的高级能够让芯片面积更小，能耗更低，性能变得更强。

台积电发布完消息之后，三星方面紧接着传来的消息表示，已经向3纳米技术正式进攻，并且会提前采用这一技术，既然三星和台积电方面已经获得了突破，那么我们国家自然是不会落后的。尽管比起这两个顶级芯片制造企业来讲，我们还是有一定差距的，但是目前我们也迎来了一个新的突破。
中芯国际不甘落后
目前中芯国际已经实现了14纳米的工艺技术，并且有媒体表示说中芯国际的N+1工艺已经正式进入到了客户导入阶段，到今年年底就会实行小规模的市场，而在明年也就是2021年将会被量产， N+1工艺是14纳米工艺的升级版，在性能上提升了20% ，在功耗上降低了57% ，而在逻辑面积上更是减少了64% 。
综合来讲，相当于是台积电的8纳米到10纳米工艺，我们都知道，芯片的制造过程中光刻机占有非常重要的位置，而ASML作为光刻机巨头拥有顶尖的光刻机技术，但此次中芯国际所制造的N+1工艺并不是特别依赖于as ml的光刻机。

虽然比起台积电的5纳米，存在着一定的差距。但是，在短时间内能够研究出N+1工艺也是非常不容易的，让国人看到了希望。除此之外，据说中芯国际的N+1工艺会在2024年实行量产。而这个N+1工艺相当于台积电方面的5纳米制造工艺。
中国芯即将迎来春天
虽然说用在智能手机上可能会与台积电的5纳米有所差别，但是用在其他的电子领域已经足够了。目前来讲，中国的很多科技巨头企业都已经开始对芯片行业加大投资。这一次势必要在半导体领域取得一定的突破，抱着这样必胜的决心，相信在不久的将来，国产芯片一定能够实现国家所提出的要求，并且国产芯片的春天即将到来。
【芯片|台积电官宣好消息，国产巨头也不甘示弱，“中国芯”的春天来了】此次的芯片禁令对于我们影响非常大，但是，只有能够承受住这样的压力，我们才能够在这样的压力下释放出我们更多的能量，释放出我们更多的潜力，去完成从前我们想都不敢想的事情。相信终有一天，华为能够在站上世界科技领域的订单，到那个时候相信以华为的实力，没有人再能够将其从高处推下深渊。