光刻机|耗时7年克服难题,打破长期垄断,有望造出最先进光刻机
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光刻机制造难度大、技术门槛高 , 严重卡住了我国芯片产业的脖子 , 拖慢了国产芯片的脚步 。 为了打破这一困境 , 中科院已经表态将举全院之力 , 攻克光刻机难题 。 不过 , 想要突破并非一件易事 。
上世纪60、70年代 , 是国产光刻机发展的黄金时期 , 多所院校、科研机构都投身光刻机研制 。 可惜的是 , 还没等国产光刻机赶上世界水平 , 我国光刻机研发便在“造不如买”思想影响下 , 逐渐搁置 。
好在如今我国重新意识到了光刻机的重要性 , 将再次起步 。 而且 , 我国已经在光刻机局部技术上有所成就 , 可以更快起步 。
作为中国第一个光学领域研究所的长春光机所 , 前段时间时间传来好消息 。 经过7年的攻坚克难 , 在今年8月份 , 由其承担的国家重大科研仪器设备专项“1.5米扫描干涉曝光系统”项目 , 成功验收 。
这表示 , 我国又打破了一项海外的长期垄断 , 我国拥有了独立制作米级单体无拼缝全息光栅能力 , 并且最大面积达到了650mm×1700mm , 令人瞩目 。
据悉 , 这项项目的成功突破 , 对我国高端光刻机、可控核聚变等多领域的发展 , 具有十分重要的意义 。 我国在光刻机领域的研发 , 得以更近一步 。
【光刻机|耗时7年克服难题,打破长期垄断,有望造出最先进光刻机】
此前 , 长春光机所还实现了13.5nm波长极紫外光 , 成功建设EUV光刻曝光装置 , 意义也十分重大 。
此外 , 在光刻机双工件台技术上 , 我国也有卓越表现 。 成立于2012年的华卓精科 , 经过多年努力 , 终于成为继ASML之后 , 全球第二家掌握光刻机双工件台技术的企业 , 打破了海外长期以来的垄断 , 也打破了外国人对中国的偏见 。
华卓精科创始人清华大学教授朱煜 , 在2006年时 , 他便带领团队参加了“02专项” 。 其研制的α样机 , 成功获得了验收 。 这也是“02专项”光刻机项目中 , 第一个通过验收 , 令人瞩目 。
在华卓精科的助力下 , 作为中国唯一光刻机巨头的上海微电子也得以迅速发展 。 2021年 , 上海微电子28nm浸没式光刻机有望问世 , 其所采用的光刻机双工件台 , 便是来自于华卓精科 。
在众多企业、科研机构的共同努力下 , 未来中国企业将有望造出中国最先进的光刻机 , 由此 , 中国芯片产业也将少一大短板 , 从而最终实现自主、可控 。
文/BU 审核/子扬 校对/知秋
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