光刻机|再次突破！我国光刻机再创奇迹，5纳米光刻机技术突破_纳米|芯片|it芯片

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文/环球珊珊观察
光刻机对于平常人来说也许是陌生的，然而说到芯片却是熟悉的，毕竟现代社会人们使用的电脑、智能手机、MP4等都使用到芯片，而光刻机就是生产芯片的机器，光刻机技术决定了芯片的性能高低。中国光刻机技术、航空发动机、轴承钢等一直都是中国被卡脖子的核心技术，为此中科院还成立了攻克小组，当然这个核心技术攻克小组的成立与华为总裁任正非也有一定关系。如今，中国光刻机技术突破，一定程度为华为缓解了危机。

顶尖光刻机制造难度极大，无论是对于中国科学家还是对于外国科学家来说，甚至有着“光刻机一个零件，足够一个科学家花十年制造”的话，并且美国还对中国进行了技术封锁，在两大压力下，中国另辟蹊径，近日，中科院发出好消息，苏州纳米所在超高精度光刻机技术上获得新突破。中科院经过努力研发出了一种不需要顶尖光刻机EUV就可以生产5纳米制程芯片的新型超高精度光刻激光技术，这一技术成为了超越荷兰ASML公司EUU光刻机技术的存在。

众所周知，此前荷兰ASML公司曾经说7纳米以下制程芯片必须需要EUV光刻机才能够制造出来，然而今天中科院使用的超高精度光刻激光技术已经打破这一定论，用实力向世界证明中国技术的强大。其次，中科院此次研究出的激光技术使用了双激光交叠技术，在经过多次探索中，拓展了直接激光采写的应用当年。
【光刻机|再次突破！我国光刻机再创奇迹，5纳米光刻机技术突破】
中国这次重大突破为我国一些公司发展提供了推力，比如华为，华为此前使用的芯片是安卓的，但是由于受到美国的钳制，华为一度陷入了危机，在巨大的压力之下，华为成功研制出了5G芯片“鸿蒙” ，成功变被动为主动，实现逆转。相信在中科院的研究的加持下，华为也可以越走越远。