芯片|官宣了，国内芯片巨头传来好消息，国产“7nm”来了_华为|官宣|it芯片

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芯片是当下智能设备的核心，可以说，目前所有的智能设备都离不开芯片，而在全球范围内，芯片技术领先的厂商并不多，而华为就是其中之一。
例如，华为是最先在芯片中加入NPU的厂商，随后苹果、高通等厂商也纷纷效仿；华为是最先推出5G双模芯片的厂商，比高通早半年之久，苹果至今无能为力。
尽管华为芯片技术领先，其没有进入芯片制造领域内，但在2020年，情况发生了变化，华为开始进入芯片半导体制造领域内。

消息称，华为计划在2年内投入80亿美元，要在光刻机技术方面实现突破。
另外，华为宣布全面扎根进入芯片半导体领域，还要在新材料以及终端制造方面突破技术瓶颈，实现从芯片设计研发企业向IDM的转型。
除了华为外，还有很多国内企业也开始加速发展芯片研发或者制造技术等，其中，比亚迪就进入芯片制造领域，并完成了新一轮融资，还要通过上市加速技术发展。

而中兴则宣布7nm自研芯片目前已经商用，自研的5nm芯片将会在2021年交付量产。
还有中科院纷纷加速芯片技术发展，尤其是中科院，将先进光刻机列入优先攻克的技术行列。
但就在近日，国内芯片巨头传来好消息，具体如下。
据悉，国内一站式 IP 和定制芯片企业芯动科技正式官宣，已完成全球首个基于国内芯片巨头的 FinFET N+1 先进工艺的芯片流片和测试，所有 IP 全自主国产，功能一次测试通过。
也就是说，此次采用N+1工艺流片和测试的芯片，是完全自主国产的。

要知道，梁孟松之前就表示， N+1工艺在功率和稳定性方面7nm工艺非常相似，且不需要EUV光刻机，但在性能方面提升还不够，所以N+1工艺是面向低功耗应用领域的。
另外， N+1工艺和14nm相比，性能提升20% ，功耗降低57% ，而7nm市场基准性能提升应该是35% 。
这么看来，国内芯片巨头的N+1工艺的芯片相当于国产“7nm”芯片，如今， N+1已经完成流片测试，这意味着7nm芯片来了，而该芯片主打的低功耗。
【芯片|官宣了，国内芯片巨头传来好消息，国产“7nm”来了】
另外，国内芯片巨头也成为继台积电之后，第二家在没有采用EUV光刻机的情况下，成功生产制造7nm芯片的厂商。
最主要的是，国内芯片巨头之前表示，预计将会在2020年试产N+1工艺的芯片，将会在2021年底试产N+2工艺的芯片，相比之下， N+2主打高性能。
也就是说，其能够如期完成N+1工艺芯片的试产，自然也能预期完成N+2工艺芯片的试产。

再加上，国产先进的28nm光刻机将会在2021年量产，届时，国内厂商在国产光刻机等协助下，就能大规模量产国产10nm、7nm等先进制程的芯片。
当然，除了这个好消息外，还有一个好消息，那就是华为正式在芯片领域内全面出手了。
据悉，华为海思已经开始公开招聘，在全球范围内招聘超过40余博士，全面是与芯片相关。
其中，有芯片架构研发工程师、有芯片封装测试工程、有芯片可靠性功能以及芯片测试系统工程师等。
也就是说，华为海思已经做好的充分准备，不仅要自研芯片，还要实现芯片的自主生产制造。

更何况，华为郭平也表示，将会对海思保持继续投资，未来将会有一个更强大的华为海思归来。
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