芯片|“去美化”进程加速！国产又一巨头官宣，7nm芯片已不在话下！_官宣|光刻机|it芯片

文章图片

文章图片

文章图片

华为芯片上的遭遇已经将半导体行业的弱势残酷的暴露在大众面前，这也让原本只想凭着组装产品发财的公司内心产生动摇。
的确，想要在这个飞速发展的互联网时代中长久的发展下去，就必须有自己能拿得出手的东西，简而言之就是别人没有的技术硬实力。

在芯片制造上，此前张忠谋曾说，中国造不出高端芯片，很多人内心愤愤不平，但又无从反驳，值得一提的是在其之后王传福曾说过一句话，获得了大众居多的点赞，他说， “芯片是人造的，不是神造的。 ”

虽然王传福旗下的公司是生产汽车芯片的，而他的言论在获得众人认可的同时，不免出现一些不同的声音，认为他把芯片制造想得太容易，逞口舌之快。
但这同样还是让我们明白不必妄自菲薄，即使如今所面临的情况的确严峻，但只要拿出造原子弹的决心和气势来，还有什么是不能完成的呢？
从前就有一句话叫， “世上无难事只怕有心人” 。

这一次为了加快将技术上的去美化，中科院已经宣布集合众人之力将芯片制造技术的关键\"卡点\"一个一个突破。
但想要研究芯片制造，或者说想要生产芯片就必须要有光刻机，如今国内首台的光刻机被用于抵债，此前花7500万买回来的也只是一个二手的，中芯国际向ASML公司采购的光刻机还在运回来的路上遥遥无期，难道在这方面我们真的毫无办法了吗？

近日，国产又一巨头官宣，国产芯片7nm已经打破目前格局，就算没有EUV光刻机我们仍然可以造出7nm芯片！说出这句话的是芯动科技。
据10月11日，芯动科技公布的消息，目前，它已经完成了全球第一个基于中芯国际 FinFET N+1 先进工艺的芯片流片和测试。
而且，此次所有 IP 全自主国产，功能也是一次测试通过。

根据相关行业人士透露， FinFET N+1 工艺生产出来的芯片和台积电14nm芯片的标准比起来，性能上提升了20% ，功耗降低了57% 。
从功率和稳定性方面看基本与台积电的7nm工艺相同，也就是说，就算没有EUV光刻机，基于这个工艺搭配普通光刻机就能制造的芯片与台积电的7nm芯片基本等同。

此消息一出来，一石惊起千层浪。让很多原本带着消极心态的人慢慢看清了前路，芯片制造技术是很难，也不是很难。
【芯片|“去美化”进程加速！国产又一巨头官宣，7nm芯片已不在话下！】难的是大家有没有一起共同研究攻克技术难关的心，而芯动科技这一次无疑又让国内“去美化”的进程进一步加速，如今可以说7nm芯片已经不在话下！