iphone12|?荷兰职员：中国能造出比肩7nm工艺的芯片，简直“反人类”操作_国行

文章图片

文章图片

文章图片

文章图片

文章图片

相信只要是略懂科技新闻的朋友们都知道，如今中国在科技方面有着几个“大壁垒” ，其中最大的壁垒就是光刻机以及芯片，顶尖的EVU光刻机现在甚至能做到加工2nm或者3nm芯片，要知道现如今我们所使用的手机搭载的芯片最顶尖也仅是5nm工艺。

光刻机其实是非常难制造的，荷兰的ASML公司也并不是自己造出来的，其中更多的是德国美国这些国家的技术支持，那么中国在光刻机方面遇到壁垒，最好的方法就是改变思路，争取换道超车，而在最近，中国在芯片制造方面，就传出了好消息。

就有荷兰职员表示：中国如今能造出比肩7nm工艺的芯片，简直“反人类”操作，中芯国家一直都是中国最强大的电路芯片制造商之一，在研发芯片打破壁垒这一方面中芯国际是刻不容缓，而在近期，一款FinFET N+1工艺制造的芯片出现了。

据说这款芯片已经完美度过了所有的测试，而且性能相对于上一代14nm工艺的芯片，有了极大的提升，保守估计性能方面至少能提高两成，功耗也有所降低，也就是说，这个芯片已经可以比肩去年的主流高端产品7nm工艺的芯片。

虽然中国目前的由上海微电子研发的最顶级光刻机仅在28nm工艺，但是在芯片方面却有所突破，做到了堪比7nm工艺，这无疑是一大突破，这现如今换道超车已经成功了一半了，就只需要再加把劲，或者等待光刻机的突破。
【iphone12|?荷兰职员：中国能造出比肩7nm工艺的芯片，简直“反人类”操作】
近期有传闻说中国的一些科企业会与日本老牌的光刻机制造商尼康进行合作，如果消息不假的话，相信很快就能打破光刻机这另外一层壁垒了，对此各位读者有什么看法？欢迎评论区留言，你能够预测中国大概会在什么时候攻克这两个技术吗？欢迎留言。