光刻胶|为了任正非担忧的“一滴胶”，来了6台光刻机，193nm已攻克_光刻机|任正非|芯片

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【光刻胶|为了任正非担忧的“一滴胶”，来了6台光刻机，193nm已攻克】

华为芯片被断供，让国产芯片供应链成为近来持续的热门话题，而这其中，作为芯片制造关键设备的光刻机，尤其引人关注。前不久，晶瑞股份宣布将投入1102.5万美元巨资购买一台SK海力士的二手ASML光刻机，另一家半导体公司英唐智控则通过收购先锋微技术，据说顺带拿下了5台光刻机。

不过这两家企业所获得的6台光刻机，主要不是准备用来制造芯片的，而是为了芯片制造中一项关键材料，光刻胶的研发。如此不惜重金投入光刻胶研发领域，足见光刻胶对于芯片产业的重要性，也意味着我国企业在光刻机之外的另一项芯片关键技术上，正在加紧布局。
就在上个月中旬，四大部委共同发布了一份指导意见，即《关于扩大战略性新兴产业投资培育壮大新增长点增长极的指导意见》，其中就明确提出要加快新材料产业强弱项，要求迅速在光刻胶、大尺寸硅片、电子封装材料等领域实现突破。与此同时，上海新阳、雅克科技、微芯新材等公司纷纷宣布进行专项投入，布局高端光刻胶的研发和产业化项目，国产光刻胶的前途似乎一片光明。

然而现实却依然不太乐观。近日，华为心声社区发表了任正非在访问科研院所时，与科学家和大学生代表的谈话内容，任正非在讲话中坦承，目前我国的基础工业还是不强的，他还提到了“小小一滴胶，就制约一个国家的故事” ，虽然任正非并没有展开来讲这个“卡脖子”的故事，但很多人都知道，他指的就是芯片制造用的光刻胶。或许有人还记得去年7月份的时候，日本针对光刻胶等半导体材料向韩国发出了限制措施，虽然禁令很快就解除了，但还是让三星、SK海力士和LG显示等巨头感受到了空前的危机。

光刻胶作为半导体制造业的基础性材料，其重要性并不亚于光刻机。与高端光刻机被ASML垄断类似，在光刻胶领域，日本厂商占据了绝对优势，仅富士胶片、信越化学、住友化学几家日本龙头公司，就占据了绝大部分市场份额。而在我国，除了在PCB（印制电路板）光刻胶方面由于技术门槛较低，国产化进展相对较快，已经能够基本满足国内主流厂商的需求之外，在技术难度更高的LCD（液晶显示器）光刻胶和高端半导体光刻胶方面，绝大部分都要依靠进口。

尤其是技术含量最高的半导体光刻胶，目前的差距还是比较大的。根据公开的消息，晶瑞公司的i线光刻胶（365nm）已经通过中芯国际验证并开始量产，而精度更高的产品，当属南大光电的ArF光刻胶。根据今年5月份披露的信息，南大光电的ArF光刻胶产品开发和产业化项目，作为国家“02专项”集成电路芯片制造用关键核心材料研发的重要课题，将于明年接受验收，目前正处在ArF（193nm）光刻胶样品验证阶段，意味着193nm光刻胶已经被攻克。

但南大光电同时还提到， ArF（193nm）光刻胶产品开发技术突破难度大、工艺要求高，而且实现稳定量产周期较长，后续是否能取得下游客户的订单，能否大规模进入市场仍存在较多的不确定性。不过近来华为和中兴被限制的前车之鉴，以及有消息称美国主导的“瓦森纳协定”正在着手扩大半导体技术出口管制范围，除了ASML的EUV光刻机，还准备把日本公司的半导体光刻机和光刻胶纳入限制，这也让国内企业认识到光刻胶的危机离我们并不遥远。

很显然，与光刻机一样，光刻胶也需要打造独立自主的能力，国产化已势在必行。为了任正非担忧的那“一滴胶” ，短期内就来了6台光刻机，这既体现了一种企业责任，也正是看到了危机中隐藏的巨大机会。只不过，高端半导体光刻胶国产化的难度，可能会比芯片和光刻机，还要大得多。上海微电子装备公司生产的光刻机已经达到90nm节点，准备在明年推出满足28纳米工艺的光刻机了，但在光刻胶领域， 193nm虽然已攻克，却还没有形成产能，即便已经量产的低端光刻胶产品部分，也还没有形成规模，这样的差距，与快速发展的半导体行业相比，甚至被一些人认为是拖了后腿。
但我们现在只能正视客观现实，一步一个脚印地追赶。比较利好的是，近年来，国产面板得到了突破性发展，以中芯国际为代表的圆晶代工也取得了规模化的进步，使得对上游包括光刻胶在内的原材料需求明显上升，这也为国产光刻胶的替代和发展创造了良好的市场条件。

当然，正如任正非所言，光刻胶等原材料是高科技中的高科技，前期投入比较大，甚至还需要购买高端的光刻机，但市场容量却并不大。 2019年的全球光刻胶市场总体规模才90亿美元左右，行业成长空间有限，加之处于垄断地位头部企业已经建立起了强大的技术壁垒，这也是之前我国企业在光刻胶领域缺少突破的重要原因。但是目前，在打造国产芯片供应链的大背景下，光刻胶的研发和光刻机一样已经成为战略需要，不能仅仅考虑是能否赚钱的问题了。何况现在有国家大力支持，市场需求又旺盛，的确是一个加速追赶建立自主供应链的大好时机。