国产“造芯”的必经之路，这个高端“货色”，国内何时才能破局？( 四 )_随着人们对于半导体行业的不断重视

我们都知道，光刻机是用在芯片制造方面的，而芯片的制程工艺就是靠着光刻机技术来的，现在华为、苹果等厂商使用的7nm目前可以说是超高端技术，而正常的主流技术则是7-28nm ，我国的90nm技术则是目前最为低端的技术。 90nm得光刻技术现如今掌握在上海微电子的手中，而想要从90nm向上爬，则需要迈过很多的门槛，这些门槛的研发时间非常长，甚至用几年的时间才突破那都是很正常的。

所以按照现在的形式来看，我国自研光刻机相比较于ASML的技术还差了很多，保守估计也要十年的实现才能够达到ASML现在的水平，所以未来自研光刻机的要走的路还有很远，毕竟这项技术非常困难，而我国如果在芯片制造上不再被人“卡脖子” ，那么就要做好努力的准备，努力研发，先向中端领域前进，然后再冲击高端，一步一个脚印，这样才能够有机会实现我国半导体行业的自给自足。