全球顶级科技巨头: 就算公开技术蓝图也无法被模仿, 包括中国!( 二 )
其实目前国内光刻机技术水平要比阿斯麦落后十几年 ， 甚至数十年 ， 光刻机技术的进步必须一步一个脚印 ， 要想研制7nm工艺的光刻机 ， 必须拥有8nm工艺的基础 ， 要拥有8nm的光刻机 ， 必须拥有9nm工艺的基础 ， 没有办法弯道超车 。 曾经阿斯麦相关人士对外放出狠话 ， 就算公开技术蓝图、图纸 ， 世界上包括中国的很多芯片制造企业都没有办法模仿 ， 可以说 ， 在光刻机领域 ， 需要的不仅仅是技术水平 ， 还要有丰富的经验、专业的人才 。
所以 ， 不管在芯片生产设备领域 ， 还是在相机感光元器件制造领域 ， 阿斯麦称得上是全球顶级科技巨头！
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