打破垄断！中国攻克芯片高端设备，巧妙避开国外专利壁垒！( 三 )

2019-12-22

光刻机是制造芯片的很重要的设备之一，我们都知道半导体的生产设备都是极其昂贵的。但是最贵的机器就是这样的光刻机，因为它所做的工作是极其精密的，甚至这一台机器的先进水平可以决定芯片生产出来的先进程度，也因为没有我们自己研发的芯片，我们国家就一直很被动。

而这一次我们国家的光电研究所研制出来的光刻机是非常强大的，并且也填补来我们的国家的一项空白。这一台机器它是全球第一台使用紫外的光源而实现曝光度达到22纳米的机器。

并且使用了多次曝光的技术。这一点上我们国家成功地绕开了国外的专利堡垒。因为目前世界上的很多光刻机使用的都是深紫外光源的技术，它分辨率的极限达到34纳米，如果想在这一基础上有所提高，就需要用多重曝光的技术。

但是这些技术涉及到了国外的知识产权，并且他们给出了很高的价格，因此我们的国人就放弃了运用国外专利的计划，使用了产生波长比较短的电磁波在光刻上！

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