激光清洗和等离子清洗的区别( 二 )

等离子体清洗的机理 , 主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的 。 就反应机理来看 , 等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面 。

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