华林科纳湿法清洗中去除硅片表面的颗粒( 二 ) _car-t

中的下列方程，金属氧化物颗粒的ζ电势在酸性溶液中为正，在碱性溶液中为负
低pH值:M-OH+H \"+OH
-- M-OH；+ OH高pH值:M — OH + H\" + OH
m-OH * H \"+OH
-- M-O+HCO+H
此外，据报道，亲水性(覆盖有氧化膜)和疏水性(裸硅表面)晶片在水中都表现出负表面电荷。将这些观察结果与图1所示的结果联系起来，据信在碱性溶液中，晶片表面和颗粒的ζ电势都显示出负电荷。结果，晶片表面和颗粒被认为在碱性溶液中是电排斥的。这表明碱性溶液是有益的用于从晶片表面去除颗粒。 B.晶片清洗高压碱性溶液RCA清洗方法[2
是一种主要的湿法硅晶片清洗方法，它采用nh4h-H2 2”H2O溶液作为碱性溶液。氨水-二H2O溶液通常采用1 : 1 : 5的混合比(氨水:HCO:氢) 。图3显示了NH4 H-Hz z-H溶液中各种NH4OH含量与溶液pH值之间的关系。如图3所示， 1∶1∶5溶液的pH值为9. 然而，图1和2所示的结果表明NH4OH-H2O ‖- H中的NH4OH含量；o如果溶液专门用于去除颗粒，则可以减少。

华林科纳湿法清洗中去除硅片表面的颗粒( 二 )

推荐阅读

如何找寻自我

缝纫机调线器怎么安装平车方法如何

强组词强字组词

火笋鸡翅的做法（增肥食谱）

闺女生日快乐祝福语朋友圈

LV请来潮牌设计师做艺术总监，看中的是啥

老虎豆怎么做好吃老虎豆图片怎样弄来吃

暖气有流水声是什么原因

皮球是什么体

手机怎样开通QQ空间

男生发mua说明 mua是什么意思

手指盖凹陷怎么回事

对自己的生活失去掌控咋调整

小米10s怎么没有月亮模式

我想找个偏僻的地方搞养殖！有没有推荐的地方？

南京养老金认证上门服务怎么申请南京市养老金认证

如何评价猪场阉割猪？

最后一个字是豹的成语

泰山散酒怎么样

猫发情的声音(猫发情的叫声)