华林科纳-----次氯酸钠对单晶硅表面的纹理蚀刻( 二 )




图4 硅表面(111)取向在5%NaOCl/10%乙醇溶液中85uC蚀刻25min的扫描电镜图像
总结
我们研究了在蚀刻溶液中加入乙醇对晶体硅表面形貌和反射率的影响 。 研究表明 , 次氯酸鈉溶液中缺乏乙醇会导致硅表面形成纳米线或纳米边缘结构 , 而其存在会导致锥体结构的形成 。 此外 , 测量的平均平均反射率从初始值约35%降低到9% 。 对观察到的纳米结构(纳米边缘、纳米线)的EDS和SIMS分析表明 , 发现了O、Na、Cl和H原子的存在 , 这些原子主要是以化合物形式存在的化学成分 。 最后 , 证明了NaOCl/乙醇溶液的各向异性特性 。

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