世界最贵设备之一，光刻机( 三 )
ASML光刻机的简易工作原理图
简单介绍一下图中各设备的作用：
测量台、曝光台：承载硅片的工作台 ， 也就是双工作台 。 一般的光刻机需要先测量 ， 再曝光 ， 只需一个工作台 ， 而ASML有个专利 ， 有两个工作台 ， 实现测量与曝光同时进行 。 而本次“光刻机双工件台系统样机研发”项目则是在技术上突破ASML对双工件台系统的技术垄断 。
激光器：也就是光源 ， 光刻机核心设备之一 。
光束矫正器：矫正光束入射方向 ， 让激光束尽量平行 。
能量控制器：控制最终照射到硅片上的能量 ， 曝光不足或过足都会严重影响成像质量 。
光束形状设置：设置光束为圆型、环型等不同形状 ， 不同的光束状态有不同的光学特性 。
遮光器：在不需要曝光的时候 ， 阻止光束照射到硅片 。
能量探测器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求 ， 并反馈给能量控制器进行调整 。
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