中芯国际公布疫情后三大趋势!二代FinFET逼近台积电7nm,8寸扩产进度恐遭拖后( 三 )

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首先是中芯国际在高端工艺技术上的冲刺成果 , Co-CEO 梁孟松指出 , 第一代 FinFET 制程 14nm 已开始小量产出 , 2019 年第四季贡献营收 1% , 但 14nm 真正营收和产能放量会是在 2020 年底 , 主要的应用包含高端消费电子产品、高速运算 , 低阶 AP 和 Baseband、AI、汽车应用等 。

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梁孟松表示 , 14nm 制程的产能将从 3000 片扩大到 15000 片 , 这中间会有三个时程:2020 年 3 月扩产到 4000 片、7 月到 9000 片、12 月朝 15000 片迈进 。

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在第二代 FinFET 制程 N+1 方面 , 2019 年第四季进入 NTO(New Tape-out)阶段 , 目前正处于客户产品认证期 , 预计 2020 年第四季可以看到小量产出 。

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由于中芯国际对于第二季 FinFET 技术一直没有明确定义在 7nm 或 8nm , 只是对外表示是“N+1” , 在会议上 , 有投资人提出中芯的 N+1 制程与台积电 7nm 制程的比较 。

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梁孟松分析 , N+1 与中芯自己的 14nm 制程比较 , 效能增加 20%、功耗减少 57%、逻辑面积减少 63%、SoC 面积减少 55% 。

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