光刻指利用光化学反应原理把事先制备在掩模上的图形通过光学成像系统（光刻机）转印到至衬底上的过程。光刻是集成电路和微机电系统加工中最重要的步骤，目前它是唯一可以在衬底上制作亚微米和纳米精度图形的技术。光刻费用占整个集成电路加工总费用的最大比重，光刻质量直接决定了芯片是否可用。

光刻工艺流程

而集成了光刻技术的光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备，技术含量、价值含量极高。光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量较高的设备，因此也具备极高的单台价值量，

如今全球的光刻机巨头是ASML ，垄断了全球100%的高端光刻机，在ASML之前，佳能本是光刻机巨头，而ASML之所以能够在日美光刻机大战中获胜，则要多亏了这个中国人—林本坚。

光刻机发展史

1956年，美国贝尔实验室用晶体管代替电子管，制成了世界上第一台全晶体管计算机Lepreachaun ，后来，基尔比发明了集成电路取代了晶体管，为开发电子产品的各种功能铺平了道路，并且大幅度降低了成本，第三代电子器件从此登上舞台。它的诞生，使微处理器的出现成为了可能，也使计算机变成普通人可以亲近的日常工具。自此，光刻技术开始萌芽。