国产3nm半导体工艺又刷屏了 先别沸腾了：量产还需多年( 三 )
不过这个所谓的负电容技术还是学术研究，南华报道中提到了殷华湘表示该技术具备应用实力，但是殷华湘也提到了这个技术距离商业化应用还有数年时间，团队还在致力于解决材料及质量控制等问题。
简单来说，这次的国产突破3nm工艺报道依然是一项重要的学术进展，但在半导体工艺上这样的例子太多了，除非能很快量产并且具备更好的性能或者更低的成本，否则这些工艺很难取代现在的半导体技术。
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