台积电5纳米EUV芯片已开始生产,全球仅两家能做到( 二 )
为什么5纳米很特别?
5纳米节点是首个从开始就使用极紫外光刻(EUV)技术做出来的。在波长只有13.5纳米的情况下,EUV灯可以在硅上产生非常精细的图案。其中一些图案可以用上一代的平版印刷工具制作,但这些工具必须连续放置三四个不同的图案,来达到EUV中仅需一步的效果。
性能和能效提升
没有EUV,代工厂开始了7纳米的生产,但后来使用它来代替平版印刷的步骤并提高产量。在5纳米,代工厂被认为是使用10到12个EUV步骤,如果使用旧技术,将需要30步甚至更多,如果它能够使用旧的技术的话。
由于包含图案的光罩非常昂贵,而且每台光刻机本身的投资额高达1亿美元,因此“每层的EUV成本更高。”VLSI Research的G.DanHutcheson表示。但就每晶圆而言,这是一个净收入缺口,而EUV将构成未来所有流程的核心。
谁会使用这一新工艺?
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