全球占近七成市场!阿斯麦 (ASML.US)如何用35年走上光刻机霸主之路?( 八 )
ASML 一方面通过客户入股获得研发资金,降低研发风险;另一方面不断通过战略并购,快速扩大市场份额、打通上游供应链、攫取技术领先优势、扩展业务领域。通过收购光源大厂 Cymer、电子束检测设备商 HMI 以及入股镜头龙头卡尔蔡司等,ASML 构建起完整的上游 供应链,并且快速获得了光源、镜头等光刻机零件领先的技术,占据技术高地,进一步促进公司技术的创新。
2001 年,ASML 收购美国光刻机巨头硅谷集团(SVGL), 快速获得反射技术,市场份额快 速提升。ASML 尚未掌握新一代 157nm 激光需要配臵的反折射镜头技术,硅谷集团拥有较 成熟的 157nm光学技术,于是 ASML 通过将硅谷集团收入囊中获取了该技术。
2007 年,ASML 收购了美国 Brion 公司,这是一家专门从事计算光刻集成电路的公司,成 为 ASML 整体光刻产品战略的基石。
2013年,ASML 收购了全球领先的准分子激光器厂商Cymer,加速了EUV光源技术的发展, 为光源技术提供了保障。Cymer 拥有世界领先的光源技术,2000 年推出第一款专为193nm波长的光刻应用而设计的 ArF 光源;2001 年推出业界首款光刻光源专用电子诊断和性能监 控软件 Cymer OnLine;2005 年推出业内首款 193nm ArF 6kHz 光源 XLA 300,之后 Cymer 的多款产品也均是行业首发。2009年,Cymer 提供了首个生产就绪的激光产生的等离子EUV 源。ASML 对 Cymer 的收购,加速了 EUV 半导体光刻技术的发展。
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