Intel|单价超19亿 Intel下单订购首台ASML最先进EUV光刻机

1月19日最新消息 , Intel宣布第一个下单订购了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机 。TWINSCAN EXE:5200是ASML的高NA(数值孔径)EUV光刻机 , 其吞吐量超每小时220片晶圆(wph) 。从路线图来看 , EXE:5200预计最快2024年底投入使用 , 2025年开始大规模应用于先进芯片的生产 。
【Intel|单价超19亿 Intel下单订购首台ASML最先进EUV光刻机】事实上 , 4年前 , ASML的第一代高NA(0.55 NA)光刻机EXE:5000 , Intel就是第一个下单的公司 。不过当前的7nm、5nm芯片还并非是其生产 , 而是0.33NA EUV光刻机 。
Intel|单价超19亿 Intel下单订购首台ASML最先进EUV光刻机
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和0.33NA光刻机相比 , 0.55NA的分辨率从13nm升级到8nm , 可以更快更好地曝光更复杂的集成电路图案 , 突破0.33NA单次构图32nm到30nm间距的极限 。
外界预计 , 第一代高NA光刻机EXE:5000会率先用于3nm节点 , 至于EXE:5200 , 按照Intel的制程路线图 , 2025年至少是20A或者18A(A代表埃米) , 也就是2nm和1.8nm或者20埃米和18埃米 。
此前 , ASML发言人曾对媒体透露 , 更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍 。未来比3nm更先进的工艺 , 将极度依赖高NA EUV光刻机 。
最后不得不说 , Intel能抢到第一单 , 除了和ASML一致紧密合作外 , 当然也是因为“钞能力” , Gartner分析师Alan Priestley称 , 0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美元(约合19亿元人民币) 。
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