爱集微|美光解散上海DRAM设计团队,业内人士称可能是为防止技术外泄

_原题是:美光解散上海DRAM设计团队 , 并挑选核心员工技术移民美国
集微网消息 , 1月25日 , 业内有消息指出 , 美光科技正在解散150人左右规模的上海研发中心 , 并挑选了40多位核心研发人员提供移民技术美国的资格 。
针对上述消息 , 集微网在向多位美光前员工与在职员工求证后获悉 , 美光此次并非解散整个上海研发中心 , 而是仅仅解散了DRAM设计部门 , 该部门总人数超过100人 。 除了该团队 , 美光上海研发中心还包括销售、测试等多个部门 。 另外 , 美光目前在西安的工厂也不会发生其他异动 , 该厂主要开展集成电路装配与测试以及DRAM模块制造 。
美光员工告诉集微网 , 上海的DRAM设计团队的解散将于今年内完成 , 公司提供技术移民美国资格的消息属实 , 部分核心员工将可以携带家属一同移民至美国 , 目前仍无法确定有多少员工会选择移民 。
据一位前美光员工透露 , 美光的DRAM设计团队此前有一大波人员流失至国内的本土IC设计公司和存储大厂 。
某半导体行业高管评论称 , 美光解散DRAM设计团队很有可能是出于防止技术外泄的考虑 , 虽然目前国内的DRAM企业数量相对较少 , 但未来几年内或有可能涌现出新的几家DRAM制造商 , 而且现有的DRAM企业也正求贤若渴 , 美光此举或是想将产品的设计和研发收拢至中国大陆以外地区 。
该行业高管还指出 , 美光对知识产权保护的重视程度由来已久 , 此前美光就曾因商业机密泄露将联电告上法庭 。 不过在2021年11月26日 , 美光与联电共同宣布达成全球和解协议 , 将各自撤回向对方提出的诉讼 , 联电将向美光一次支付金额保密的和解金 , 双方在声明中均称 , 期待未来达成共同的商业合作机会 。
美光在该知识产权诉讼结束时就曾强调 , 知识产权保护是美光赖以保持竞争力的重要基石 。
【爱集微|美光解散上海DRAM设计团队,业内人士称可能是为防止技术外泄】市场调研公司Counterpoint报告显示 , 三星以41.5%的市场份额居市场首位 , SK 海力士市占率29.3%排第二 , 美光则为23.4%居第三 , 前三大厂合计攻占DRAM市场94.2% 。

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