22nm互连的光刻蚀刻后残留去除的挑战和新方法( 二 )


紫外预处理后的臭氧和溶剂处理导致了MHM蚀刻后PR的完全去除 , 如果适当调整以避免结构损伤 , 去除溶剂的巨超声搅拌具有有益的效果 , 以自由基阴离子为基础的臭氧和气体膨胀液体过程显示出良好的PER去除前景 。

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