我们华林科纳首次使用旋转超声雾化溶液清洗GaAs表面 。 这项新技术为湿表面清洁处理开辟了新的前景生产线上的GaAs和硅加工 。 总之 ， 我们通过使用旋转超声波雾化溶液成功地清洁了无金属杂质表面、无颗粒表面和无氧化层表面 。 在NH4OH : H2O2 : H2O = 1 : 1 : 10和HCl : H2O2 : H2O =中清洗1 : 1 : 20溶液依次进行蚀刻 ， NH4OH : H2O =1∶5的溶液去除氧化层 ， 并且用旋转超声雾化溶液是制备用于外延生长的GaAs衬底的合适的表面处理 。
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