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我知道大家都着急国产自主可控光刻机的突破 ， 不过 ， 除了光刻机外 ， 14nm甚至28nm还有诸多需要突破的环节 。
其中 ， 薄膜沉积是很关键的一个节点 ， 薄膜沉积分原子层沉积技术、化学气相沉积和物理气相沉积等几种 。
原子层沉积技术（Atomic Layer Deposition ， 简称ALD）是一种将物质以单原子层形式逐层在基底表面形成薄膜的真空镀膜工艺 。 相比传统的化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition ， 简称CVD）和物理气相沉积（Physical Vapor Deposition ， 简称PVD） ， ALD的优势在于成膜具备优异的三维保形性、大面积成膜均匀性 ， 以及精确的厚度控制等 ， 适用于在复杂的形状表面和高深宽比结构中生长超薄薄膜 。
微导纳米是国内首家成功将量产型 High-k 原子层沉积设备应用于28nm 节点集成电路制造前道生产线的国产设备公司 。 设备总体表现和工艺关键性能参数达到国际同类水平 ， 并已获得客户重复订单认可 ， 成功解决了一项半导体设备“卡脖子”难题 。
招股书显示 ， 报告期内（2019-2021年） ， 公司营业收入分别为 21581.56 万元、 31255.41 万 元 、42791.71 万元 。 2020-2021 年度 ， 公司营业收入分别同比增长 44.82%、 36.91% 。
不过 ， 公司大部分营收都来自大客户 。
对前五名客户的销售金额合计分别为 13221.75 万元、29893.03 万元、 35987.72 万元 ， 占公司主营业务收入的比例分别为 61.28%、95.66%、 84.18% 。
从公司公布的合同履约情况看 ， 客户构成以光伏企业为主 。 从某种意义上讲 ， 光伏和芯片半导体是同行 。
【28纳米关键节点史诗级突破】
研发是公司的生命 ， 报告期内 ， 公司始终保持较大的研发投入并逐年增加 。 2019年-2021年研发费用分别为 3109.05 万元、 5373.47 万元、9704.00 万元 ， 研发费用率分别为 14.41%、 17.19%、 22.68% 。
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