14纳米!清华大学就光刻机发声,中国院士说对了


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自今年以来 , 国产光刻机的相关信息就接连而至 , 我们看到了一个接一个的好消息 , 都是关于国产光刻机的最新进展 , 而且进展喜人 。

例如物镜和曝光系统供应商国望光学的工厂开始进入设备导入阶段 , 近日光刻机浸润系统方面的中试基地也投入运营 。
这一切都预示着 , 国产光刻机即将跨越关键的28纳米工艺门槛 , 而现在来看 , 这似乎已经板上钉钉 。

来自清华大学的消息 , 近日清华新闻网发布标题为“深圳国际研究生院李星辉、王晓浩团队综述高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展”的文章 。
文章大意是清华大学方面应邀 , 撰文综述了高端光刻机光栅定位与套刻测量技术发展 。
在这则新闻报道中 , 清华方面表示:我国在14nm及以下工艺制程的光刻机仍依赖于进口 。

关注国产光刻机的朋友应该了解 , 目前国产光刻机的最先进型号 , 是来自上海微电子的SSA600/20 , 该光刻机采用ARF准分子激光器光源 , 波长193纳米 , 最大分辨率为90纳米 。

然而清华方面的新闻稿却直言 , 我们依赖进口的光刻机 , 已经下探到了14纳米 。
很显然 , 这说明我们的国产光刻机 , 已经在28纳米节点上研发成功 , 这与我们之前的预测是对应的 , 下一步就是开始准备量产 。

而反观ASML方面 , 其实也似乎已经坐不住了 。
我们注意到 , ASML前段时间发布了其2022年第一季度的销售数据 , 数据显示 , ASML销售的34%的光刻机 , 都被大陆中企买走了 。
要知道 , 之前ASML还直言 , 其产能受到影响 , 只能满足客户需求的60% 。
而且翻看以前ASML对大陆中企的出货数量 , 占比与今年第一季度相差很多 。

以前中国大陆只是ASML的第三大市场 , 而现在却快速成为第一大市场 。

所以综合来看 , ASML是在有意加大对大陆中企的出货量 , 更何况之前ASML方面曾经表示 , 对于市场的变化 , 他们都能够了解知悉 。
这就意味着 , ASML或许已经了解到 , 我们国产光刻机已经在28纳米节点研发成功 , 所以现在加大出货量 , 提前占领市场 。

这并非我们刻意猜测 , 因为在ASML交付给大陆中企时 , 很多光刻机其实根本没有经过客户测试 , 就直接拉到工厂了 , 这在以前并没有出现过 。

而且就在今年第一季度中国大陆首次成为ASML最大客户时 , ASML的营收、净利润、毛利率却都出现了大幅的下降 。
所以有媒体表示 , ASML似乎在低价抢占市场 。

这也是为何会说ASML坐不住了 , 事实上 , 从以往的历史来看 , 在国产化即将到来之际 , 国外供应商低价倾销的事件已经屡见不鲜 。

然而这也验证了中国院士倪光南的那句话 , 要掌握核心科技 , 因为核心科技是要不来、买不来、求不来的 。

很显然 , 当我们掌握了光刻机的核心技术后 , ASML的态度就变了 。
其实很早之前 , ASML的态度就已经发生了变化 , 而且在EUV光刻机上 , ASML也对中国不再高傲 , 甚至认为中企可以制造出任何他们需要的产品 , 2021年还表示 , 断供只会搬起石头砸自己的脚 , 现在来看似乎应验了 。
总之我们看到 , 国产光刻机即将迎来高光时刻 , 我们拭目以待 。

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