芯片自产自足一直是我国在芯片上的重要目标 ， 本来国家在这一目标的计划是于2025年初步完成 。 但是这两年我国芯片领域从原料到设备再到生产都受到了老美的封锁限制 ， 整个产业链受到全方面的打击 ， 也造成了国内芯片技术突破困难 ， 产能难以增加的情况 。 在这样的局面下 ， 很多人对于芯片在2025年完成自产自足已经不抱什么期待 ， 更多人认为这一时限需要再往后推迟数年 。
随着老美进一步制裁 ， 目前高端的光刻机已经被禁止向国内出售 。 台积电打算在南京建厂也因为拿不到解封令 ， 不能将设备搬迁至国内 。 眼下来看 ， 没有高端光刻机进入国内 ， 芯片生产的困境还是很严重 。
搞定13.5nm光源！DUV光刻机、14nm芯片量产都在路上了 。 最近我国内突破了一项技术 ， 可能会给半导体产业带来的新的转机 ， 可以解决目前的主要困难 。 这项技术就是光刻机使用的光源 ， 在芯片的制作过程中 ， 需要在芯片上不断雕刻 ， 而雕刻的“笔”就是光源 。
光源在芯片的生产中有着举足轻重的位置 ， 没有光源就无法生产芯片 ， 同时 ， 光源也影响到芯片的工艺水平 。 现代光刻机使用的光源已经经过了许多次的更新换代 ， 从近紫外光到深紫外光再到极紫外光 ， 对应着一开始的初代二代光刻机 ， 到现在的DUV光刻机和EUV光刻机 ， 技术一直在进步之中 。 这些光源的更新有一个重要的特性就是波长不断变短 ， 波长越短 ， 芯片制程水平越高 ， 目前最先进的EUV光刻机可以实现12nm-5nm的芯片制造 。 而目前世界上使用的最先进的芯片包括苹果的A14仿生芯片和华为的麒麟9000等都是使用的5nm芯片制程工艺 。 虽然说三星已经制造出了3nm制程工艺的芯片 ， 但能否应用还是一个未知数 。
根据国内知情人员报道 ， 我国现在已经解决了13.5nm的光源 ， 也就意味着在生产14nm芯片这个关键工艺上 ， 我国已经解决了光源这个核心难题 。 而最近 ， 国内科研大牛也表示 ， 在明年年底国内可以实现14nm芯片的规模生产 。 这可能意味着我国不仅掌握了13.5nm光源技术 ， 也掌握了DUV光刻机其他各种技术 ， 能够在明年就实现国产DUV光刻机的生产 。 如果在明年年底实现14nm芯片的规模化生产 ， 对于我国的芯片困境肯定很有大的帮助 。
应该了解的是 ， 这一次14nm芯片的规模量产不是简单地使用已有的光刻机进行生产 ， 而是使用国产光刻机进行生产 。 现在我国不是没有生产14nm芯片的技术 ， 根据中芯国际的消息 ， 我国能风险量产7nm芯片 ， 但是有能力不代表着可以实现量产 ， 因为我们没有自己的光刻机 。 而这一次 ， 国内知名大牛所透露的消息却是不一样 ， 这说明我国在明年会掌握一条自主的14nm芯片产业链 。 所以这不仅意味着对我国芯片困境有很大助力 ， 也代表这条芯片产业链难以被老美制裁针对 。
好消息！光源获得突破 ， 国产14nm芯片明年底将量产 。 不过我国虽然即将解决14nm的问题 ， 但是距离顶尖芯片技术还差得很远 ， 前面也说了顶尖的EUV光刻机可以生产5nm芯片 ， 而IPhone12的发布也意味目前芯片制造商们已经开始量产5nm芯片 。 从14nm到5nm ， 中间至少隔了7nm的技术门槛 ， 所以我国和世界上顶尖的芯片制程工艺还差很多 。 我国想要短期内实现技术突破 ， 建设更先进制程工艺的芯片产业链 ， 却是不太可能 。 因为EUV光刻机和DUV光刻机之间的差距不是一点半点 ， 我国才刚刚能够生产DUV光刻机 ， 没有个几年根本没可能突破EUV光刻机 ， 而且就算有几年的时间 ， 也不一定能够顾生产出来EUV光刻机 。
不过我们也不用如此悲观 ， 毕竟EUV光刻机现在的使用并不普遍 ， 市场上所使用的芯片也大部分都归属28nm以下的工艺 ， 目前国内14及其以下芯片占据了市场百分之八十以上 ， 而7nm ， 5nm芯片这样的技术 ， 还需要很多年才能成为市场主流 ， 拥有更多的市场占有额 。
所以我们只要能够实现14nm芯片的量产 ， 便可以很快达到2025年自给自足的目标 ， 届时我过也不用在老美的制裁之下如此地难受和担惊受怕 ， 也是能够在国际芯片市场站稳脚跟 。 以我国第一芯片消费国的位置 ， 国内市场能够自给自足 ， 就已经能够为国内的半导体行业带来足够的机遇和利润 ， 有助于他们在安稳中逐渐突破芯片技术 ， 最终实现追赶乃至反超的目标 。
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