芯片的生长素！电子特气和光刻胶专题，国产替代全面开启 | 智东西内参(17)_电子化工材料（ElectronicChemicalMate

极紫外光刻胶：EUV光刻胶的出现突破了10nm分辨率的瓶颈，但目前极紫外光刻胶实现产业化尚需时日，仅有少数几家大型海外公司拥有此项技术。

目前KrF和ArF光刻胶的核心技术基本被日本和美国企业垄断，合计市场份额高达95%以上。日、美企业在高分辨率光刻胶领域的技术实力遥遥领先中国本土企业。东京应化、陶氏化学、合成橡胶、富士胶片、住友化学等国际一流企业均已实现ArF光刻胶的量产，且在EUV光刻胶有所布局。

我国半导体光刻胶市场中，本土企业市占率极低，技术差距较大。 2017年中国半导体光刻胶市场份额占全球的32% ，居世界首位，但适用于6吋硅片的g线/i线光刻胶的自给率约为20% ，适用于8吋硅片的KrF光刻胶的自给率不足5% ，而适用于12吋硅片的ArF光刻胶完全依赖进口。

全球LCD光刻胶市场规模约23亿美元，未来增速约4% 。彩色滤光片用的光刻胶占LCD面板材料成本的4%左右。彩色滤光片是LCD彩色显像的关键部件，其成本占整个彩色LCD面板制造成本的15%左右，彩色滤光片的核心制造材料是光阻（彩色光刻胶和黑色光刻胶），合计占彩色滤光片材料成本的27%左右，其中黑色光刻胶占比6~8%、彩色光刻胶占比20%左右。