芯片的生长素!电子特气和光刻胶专题,国产替代全面开启 | 智东西内参(13)

配方技术:光刻胶的品种非常多 , 针对不同应用需求 , 通过调整光刻胶的配方 , 满足差异化的应用需求 , 是光刻胶制造商最核心的技术 。

光刻机的配套需求:光刻胶需要有相应的光刻机与之配对调试 , 资金壁垒较高 。 目前全球光刻机核心技术处于垄断状态 , 只有荷兰ASML公司可制造EUV光刻机 , 售价超过1亿欧元;而技术水平稍低的DUV光刻机 , 售价为2000~5000万美元;目前国内只有一家企业可制造光刻机 , 且技术等级较低 。

体量壁垒:光刻胶企业存在较高的资金壁垒 , 相对于国内厂商 , 国外光刻胶厂商的公司规模更大 , 具有资金和技术优势 , 供应产品齐全 , 光刻胶种类丰富 , 同时有着较为全面的配套化学品 , 方便下游客户采购和共同研发合作 。

光刻胶全球市场规模近 90 亿美元 , 中国本土供应占比仅有 10%左右 , 发展空间巨大  。

随着电子信息产业发展的突飞猛进 , 光刻胶市场总需求不断提升 。 2019年全球光刻胶市场规模预计近90亿美元 , 自2010年至今CAGR约5.4% , 预计未来3年仍以年均5%的速度增长 , 预计至2022年全球光刻胶市场规模将超过100亿美元 。

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