跻身国际IC设备制造第一梯队，中微半导体是如何做到的？( 三 )
作为芯片消费制造的重要设备，等离子刻蚀机用来按光刻机刻出的电路结构，在硅片上中止微观雕琢，刻出沟槽或接触孔的设备。
其对加工精度的请求十分高，加工精度是头发丝直径的几千分之一到上万分之一。
在尹志尧的带领下，中微半导体很快开发出第一台国产的消费半导体芯片的设备——等离子体刻蚀机。
“在米粒上刻字的微雕技艺上，普通能刻200个字曾经是极限，而我们的等离子刻蚀机在芯片上的加工工艺，相当于能够在米粒上刻10亿个字的水平。
”尹志尧曾这样说。
在当时，世界上最先进的芯片消费线是90纳米制程，但中微半导体从创建之初，就展开精度更高的纳米刻蚀机研发。
它先推出了65nm等离子介质刻蚀机产品，随着技术的进步展开，陆续将产品制程从45nm逐步降到32nm、28nm、16nm等。
中微半导体的反响台托付量不时突破；单反响台等离子体刻蚀设备已托付抢先的存储器制造商；双反响台介质刻蚀除胶一体机研制胜利等成果接连涌现。
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