我科学家另辟蹊径造出9纳米光刻试验样机( 二 )_据科技日报4月15日消息

纳米加工三维结构的设计及实际光刻效果图

该技术原理自2013年被甘棕松等验证以来，一直面临从原理验证样机到可商用化的工程样机的开发困难。团队经过2年的工程技术开发，分别克服了材料，软件和零部件国产化等三个方面的难题。开发了综合性能超过国外的包括有机树脂、半导体材料、金属等多类光刻胶，采用更具有普适性的双光束超分辨光刻原理解决了该技术所配套光刻胶种类单一的问题。实现了微纳三维器件结构设计和制造软件一体化，可无人值守智能制造。

同时通过合作实现了样机系统关键零部件包括飞秒激光器、聚焦物镜等的国产化，在整机设备上验证了国产零部件具有甚至超越国外同类产品的性能。双光束超衍射极限光刻系统目前主要应用于微纳器件的三维光制造，未来随着进一步提升设备性能，在解决制造速度等关键问题后，该技术将有望应用于集成电路制造。甘棕松说，最关键的是，我们打破了三维微纳光制造的国外技术垄断，在这个领域，从材料、软件到光机电零部件，我们都将不再受制于人。