CPU的制作过程: 光刻_01、光刻：--尺度：晶圆级（300毫米

01、光刻：--尺度：晶圆级（300毫米/12英寸）

光刻胶层随后被曝光在紫外线(UV)之下，期间发生的化学反应类似按下机械相机快门那一刻胶片的变化，光刻胶经过紫外线曝光后会变得可溶解。整个曝光是通过起模板作用的掩模（Mask）完成的。掩模上印着预先设计好的电路图案，紫外线透过它照在光刻胶层上，形成微处理器的每一层电路图案。图中间的透镜起缩小掩模图案的作用，使得在晶圆上得到的电路图案长度上是掩模的四分之一。