CPU的制作过程: 光刻( 二 )
03、溶解光刻胶：--尺度：晶体管级别（50-200纳米）
曝光过的光刻胶被溶解掉，清除后留下的图案和掩模上的一致。
04、蚀刻：--尺度：晶体管级别（50-200纳米）
使用化学物质溶解掉暴露出来的晶圆部分，而剩下的光刻胶保护着不应该蚀刻的部分。
05、清除光刻胶：--尺度：晶体管级别（50-200纳米）
蚀刻完成后，光刻胶会被全部清除，然后就可以看到设计好的电路图案。
推荐阅读
- CPU|诺言首秀零封TTG，eStar随便换人都能赢，粉丝：夺冠真的稳了
- CPU|金卡在新赛季可以互送？超长的冷却时间，实在是过于鸡肋
- CPU|高通发布全新四款处理器！网友直言不如买现款
- CPU|Faker率队再进四强，天才AD一战成名，HLE败因明显，EDG却遭嘲讽
- |原神2.3确认复刻阿贝多，凝光刻晴皮肤将要出，凝光皮肤可白嫖
- CPU|内行人中肯建议：下半年不限预算，选这三款手机三年不用换
- 我的世界|一个《我的世界》装了5个《我的世界》，我闻到了CPU烧焦的香味
- CPU|Redmi K40游戏版上架，击穿价格底线，天玑1200实锤
- CPU|天玑1200游戏实测，表现尚可，功耗是个问题
- CPU|首发评测：毫无疑问的最强处理器！AMD锐龙5000性能独孤求败