三星、SK海力士向EUV工艺转换受限，将落后于台积电( 二 )_：三星、SK海力士向EUV工艺转换受限

日本政府的出口白名单中将韩国排出在外，意味着日本企业向韩国出口前必须一一向政府申请，与EUV相关的产品有Blank Mask、硅晶圆、Pellicle、半导体设备等。

EUV专用Blank Mask被日本HOYO公司垄断了市场，Blank Mask是曝光工艺中使用的Photomask的原材料，虽然韩国SNS Tech也生产Blank Mask，但是不能用于EUV。

硅晶圆领域日本也占据了大部分市场，去年国际半导体设备材料协会（SEMI）统计，日本Shin Etsu和SUMCO的全球市占率分别为第一(27%)和第二(26%)，韩国SK Siltron为第五(9%)，生产微细工艺最尖端产品时需使用日本的晶圆。

Pellicle防止Photomask受到污染并延长其使用寿命，目前还没有其他企业能生产EUV专用Pellicle，韩国还处在研发中。荷兰ASML和日本三井化学签订了EUV专用Pellicle的授权，ASML是唯一的EUV设备生产商。

半导体设备也包含在限制对象内。日本生产的化学机械抛光设备（CMP）、提升感光液贴附力的Baker设备占据了全球88%、99%的市场，韩国KC Tech等企业虽能生产但技术水平还有一定差距。

三星、SK海力士向EUV工艺转换受限，将落后于台积电( 二 )