硅的碱性蚀刻( 二 )
结论
【硅的碱性蚀刻】发展了一种用于在氖气氛中制造包含铷-87或铯-133同位素蒸汽的双室MEMS原子单元的硅的单步碱性蚀刻方法 。 为了防止在蚀刻晶片通孔的过程中破坏过滤通道计算氮化硅掩模凸角处的< 110 >取向的矩形补偿结构 ， 并使用30% KOH:IPA溶液作为硅蚀刻剂 。 发展的技术是芯片级原子钟大规模生产的前景 。
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