通过使用微透镜阵列（MLA）或空间光调制器（SLM） ， 可以实现特征的并行制造 。 它们可以从一个功率单元结合再生放大器产生多个激光焦点 。 然而 ， 使用台扫描系统指定制造坐标的瓶颈导致了相同结构的生产 。 结合DMD允许调制多个激光束 ， 从而实现独特特征的并行制造 。 入射激光束的均匀性对于均匀复制非常重要 。 微结构也可以通过复制图13所示的主结构以更快的速度制造 。 在该技术中 ， 首先通过称为主结构的TPL制造3D微结构 ， 并通过称为微转移模塑的更快工艺进一步用于制造复制品 。 这种软光刻技术的主要优点是 ， 仅主结构需要高分辨率DLW技术 ， 该主结构用作快速复制数百份拷贝的模板 。 它还满足了材料多样化的需要 。 然而 ， 该技术在主模板的结构设计中受到限制 。
图13 从通过TPL制造的主模板复制微结构的示意图 。
来源：Two-photon lithography for three-dimensional fabrication in micro/nanoscale regime: A comprehensive review Optics & Laser Technology doi.org/10.1016/j.optlastec.2021.107180
参考文献：V.R. Manfrinato L. Zhang D. Su H. Duan R.G. Hobbs E.A. Stach K.K. Berggren Resolution Limits of Electron-Beam Lithography toward the Atomic Scale Nano Letters 13 (2013) pp. 1555-1558
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